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      透射電鏡/透射電子顯微鏡

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      透射電鏡/透射電子顯微鏡

      透射電鏡/透射電子顯微鏡

      透射電鏡/透射電子顯微鏡(簡稱TEM),是把經加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上,電子與樣品中的原子碰撞而改變方向,從而產生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關,因此可以形成明暗不同的影像,影像將在放大、聚焦后在成像器件上顯示出來。可以看到在光學顯微鏡下無法看清的小于0.2um的細微結構,這些結構稱為亞顯微結構或超微結構。
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      透射電鏡/透射電子顯微鏡解決方案

      透射電鏡/透射電子顯微鏡產品列表
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      日立L型 FIB-SEM-Ar 三束系統 NX9000

      日立L型 FIB-SEM-Ar 三束系統 NX9000

      • 品牌: 日立
      • 型號: NX9000
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        -高亮度場發射電子槍冷 冷場發射電子槍先天具有的高亮度和高能量分辨率的特點,使納米量級分析研究成為可能,對超高分辨圖像和電子全息攝影具有極大貢獻。 -300kV高壓系統 300kV高壓系統具有更高的穿透能力,保證了厚樣品的原子分辨率圖像,降低了樣品制備難度,尤其對于金屬、陶瓷等高原子序數樣品的觀測十分有利。 -獨特的分析能力 新引入了雙重雙棱鏡全息攝影功能、高空間分辨率電子能量損失譜(EELS)和高精度平行納米束衍射技術等獨特的分析技術。

      日立球差校正透射電子顯微鏡 HF5000

      日立球差校正透射電子顯微鏡 HF5000

      • 品牌: 日立
      • 型號: HF5000
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        HF5000作為一款球差校正冷場發射透射電鏡,其分辨率達到了亞埃級,可以實現對樣品的超細微觀結構的觀察和分析,適用于金屬、陶瓷、半導體、納米材料等的觀察。同時,HF5000獨特的TEM、STEM、SEM三位一體功能不僅可以實現對材料內部結構的研究,也可以獲得材料表面的信息。原子級分辨率的二次電子探測器可以彌補TEM和STEM無法觀察樣品表面的缺陷,同時相比普通的SEM又具有更高的分辨率,可以滿足樣品表面高分辨形貌和結構觀察的需求,與TEM和STEM形成互補。全自動化的球差校正過程又大大簡化了球差校正透射電鏡的使用難度,提高了觀察效率,尤其適合測試平臺和科研中心等用戶。

      日立原位環境透射電子顯微鏡 H-9500

      日立原位環境透射電子顯微鏡 H-9500

      • 品牌: 日立
      • 型號: H-9500
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        -高亮度場發射電子槍冷 冷場發射電子槍先天具有的高亮度和高能量分辨率的特點,使納米量級分析研究成為可能,對超高分辨圖像和電子全息攝影具有極大貢獻。 -300kV高壓系統 300kV高壓系統具有更高的穿透能力,保證了厚樣品的原子分辨率圖像,降低了樣品制備難度,尤其對于金屬、陶瓷等高原子序數樣品的觀測十分有利。 -獨特的分析能力 新引入了雙重雙棱鏡全息攝影功能、高空間分辨率電子能量損失譜(EELS)和高精度平行納米束衍射技術等獨特的分析技術。

      日立新型雙束系統 NX2000

      日立新型雙束系統 NX2000

      • 品牌: 日立
      • 型號: NX2000
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        1.高分辨成像,高襯度成像分辨率:二次電子(3.5nm@1kV),二次離子(4nm@30kV); 2.可實時觀察加工過程; 3.全自動TEM樣品制備。

      日立新型FIB系統 MI4050

      日立新型FIB系統 MI4050

      • 品牌: 日立
      • 型號: MI4050
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        產品簡介日立新型FIB系統 MI4050MI4050是高效率的聚焦離子束設備,它使用了全新的電子光學系統,具有世界領先的SIM圖像分辨率,并且TEM樣品制備效果優異。MI4050廣泛用于截面觀察、微電路修復、納米圖像制備和納米沉積等。主要特點:1.高效率、高質量加工,二次離子分辨率:4nm@30kV2.高分辨、高襯度SIM成像3.全自動TEM樣品制備4.大尺寸樣品加工 應用領域:1.納米材料微加工2.半導體及電子元器件材料3.生命科學

      Tecnai? 透射電子顯微鏡

      Tecnai? 透射電子顯微鏡

      • 品牌: 美國FEI
      • 型號: Tecnai?
      • 產地:荷蘭
      • 供應商:北京圣嘉宸科貿有限公司

        FEI推出的Tecnai 系列透射電子顯微鏡 (TEMs) 在為生命科學、材料科學和電子行業提供了真正完整的成像和分析解決方案。 Tecnai G2 系列擁有數種型號,結合了現代技術和創新科學和工程團體的緊迫需求。其中Titan G2 60-300 是適用于二維和三維材料表征和化學分析的功能最強大的高分辨率掃描透射式電子顯微鏡 (S/TEM),具備最寬的 60-300kV 加速電壓范圍,分辨率可提升至原子級,并且允許單臺儀器完美結合 Cs校正、單色儀和 新穎的超穩定高亮度電子槍 (X-FEG),具有卓絕的 STEM 和 TEM 成像性能。技術參數:樣品電子源 (kV)放大倍數樣品臺相機 長度 (mm)EDS 立體 角 (srad)Tecnai Osiris 20 - 200 kV 22 x - 930 kx (TEM) X = ± 1 mm Y = ± 1 mm Z = ± 0.375 mm 30 - 4,500 0.9Tecnai 30 50 - 300 kV 58 x - 970 kx (TEM) 100 x - 5Mx (STEM) X = ± 1 mm Y = ± 1 mm Z = ± 0.375 mm 80 - 5,600 0.13Tecnai F30 50 - 300 kV 58 x - 970 kx (TEM) 150 x - 230 Mx (STEM) X = ± 1 mm Y = ± 1 mm Z = ± 0.375 mm 80 - 5,600 0.13Tecnai Spirit 20 - 120 kV 18 - 650,000 (TEM) X、Y 移動 2 mm樣品尺寸 3 mm n/a n/aTecnai Polara 50 - 300 kV 18 - 650,000 (TEM) X、Y 移動 2 mm樣品尺寸 3 mm n/a n/a

      Titan? 透射電子顯微鏡

      Titan? 透射電子顯微鏡

      • 品牌: 美國FEI
      • 型號: Titan
      • 產地:荷蘭
      • 供應商:北京圣嘉宸科貿有限公司

        自 2005 年FEI推出以來,Titan以其卓越的產品設計和已獲證明的具有突破性的性能和結果成為全球各地杰出研究人員的首選掃描/透射電子顯微鏡 (S/TEM)。FEI Titan S/TEM 系列包括全球功能最強大的商用 S/TEM: Titan G2 60-300、Titan3 G2 60-300、Titan Krios 和 Titan ETEM (環境 TEM)。 所有 Titans 均使用革命性的 60-300 kV 電子鏡筒,通過 TEM 和 STEM 模式在各種材料和工作條件下進行亞原子級的探索和研究。技術參數:產品能散點分辨率信息分辨極限STEM 分辨率Titan G2 60-300 0.2 - 0.8 eV 80 pm 80 pm 80 pmTitan ETEM 0.7 - 0.8 eV 0.1 nm (標準)0.12 nm (ETEM) 0.1 nm (標準)0.12 nm (ETEM) 0.136 nm (標準)0.16 (ETEM)Titan3 G2 60-300 0.2 - 0.8 eV 80 pm 70 pm 70 pmTitan Krios 0.7 - 0.8 eV n/a 0.14 nm 0.204 nm

      日立球差校正掃描透射電子顯微鏡 HD-2700

      日立球差校正掃描透射電子顯微鏡 HD-2700

      • 品牌: 日立
      • 型號: HD-2700
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        1.整體的解決方案 樣品桿與日立FIB兼容,提供了納米尺度的整體解決方案,從制樣到數據獲得和最終分析。 2.多種評價和分析功能可選 可同時獲得和顯示SE&amp;BF、SE&amp;DF、BF&amp;DF、DF/EDX和DF/EELS像;可以配備ELV-2000型實時元素Mapping系統(DF-STEM像可以同時獲得);可以同時觀察DF-STEM像和衍射像;可以配備超微柱頭樣品桿進行三維分析(360度旋轉)等。

      日立新一代全數字化透射電子顯微鏡 HT7800

      日立新一代全數字化透射電子顯微鏡 HT7800

      • 品牌: 日立
      • 型號: HT7800
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        HT7800具有優異的操作性與多樣的自動功能,通過將CCD相機與顯微鏡主機的操作相統一,可以在顯示器畫面上輕松、簡便地進行操作,高刷新率的CMOS熒光相機可以實現在明亮環境下操作,獨特的雙隙物鏡可以實現高分辨率和高反差觀察的一鍵切換,滿足不同領域的需求。

      日立新型高分辨率透射電鏡 HT7830

      日立新型高分辨率透射電鏡 HT7830

      • 品牌: 日立
      • 型號: HT7830
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        HT7800具有優異的操作性與多樣的自動功能,通過將CCD相機與顯微鏡主機的操作相統一,可以在顯示器畫面上輕松、簡便地進行操作,高刷新率的CMOS熒光相機可以實現在明亮環境下操作,獨特的雙隙物鏡可以實現高分辨率和高反差觀察的一鍵切換,滿足不同領域的需求。

      日立場發射透射電子顯微鏡 HF-3300

      日立場發射透射電子顯微鏡 HF-3300

      • 品牌: 日立
      • 型號: HF-3300
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        -高亮度場發射電子槍冷 冷場發射電子槍先天具有的高亮度和高能量分辨率的特點,使納米量級分析研究成為可能,對超高分辨圖像和電子全息攝影具有極大貢獻。 -300kV高壓系統 300kV高壓系統具有更高的穿透能力,保證了厚樣品的原子分辨率圖像,降低了樣品制備難度,尤其對于金屬、陶瓷等高原子序數樣品的觀測十分有利。 -獨特的分析能力 新引入了雙重雙棱鏡全息攝影功能、高空間分辨率電子能量損失譜(EELS)和高精度平行納米束衍射技術等獨特的分析技術。

      日立透射電鏡 HT7820

      日立透射電鏡 HT7820

      • 品牌: 日立
      • 型號: HT7820
      • 產地:日本
      • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

        日立最新推出120kV透射電鏡HT782機型,該機型繼承了標準版HT7800高速CMOS熒光屏相機設計、全數字化、大集成等優點和創新點,仍然采用第二代雙隙物鏡的設計,設計使用高分辨物鏡,標配LaB6燈絲,性能實現突破性提升。此機型分辨率可保證0.144nm(晶格像),廣泛應用于生命科學、醫學、納米材料和軟材料研究領域。主要特點廣泛應用與納米材料和軟材料研究領域。1) 包括高分子聚合物在內的系列軟材料,樣品組成元素多為輕元素,高的加速電壓下很難得到高襯度圖像,在低的加速電壓(120kV)下可以得到較為理想的圖像。2) 高分辨物鏡可保證0.144nm的分辨率,可滿足用戶對高分辨圖像的要求。3) 在較低的加速電壓下,仍保持較高的分辨率,在最大程度降低樣品損傷的同時,獲得高質量的高分辨圖片。 主要技術參數分辨率晶格分辨率[0.144 nm(120 kV)、放大倍數Zoom×200~×300,000 (HC模式)x2,000~x800,000 (HR模式) Low Magx50~x1,000加速電壓20~120 kV (100 V/step連續可調)視野旋轉x1,000~x40,000 (HC模式)±90 ° 步長15 °樣品臺優中心測角馬達臺移動范圍X、Y:±1 mm,Z:±0.3 mm最大傾斜角度±30 °主相機800萬像素(縱:橫 = 3:4) (可選其他相機)標準配置功能※2自動聚焦、自動軌跡記錄、 自動馬達驅動、自動拍照、自動電子槍對中、 實時FFT顯示、測量 (手動/自動)、Low dose、API(自動預輻照功能)、 鏡筒柔性烘烤、全視野圖像導航(Whole View)、 自動漂移校正※2根據選配項,可能有變

      JEM-Z300FSC 場發射冷凍電子顯微鏡

      JEM-Z300FSC 場發射冷凍電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-Z300FSC
      • 產地:日本
      • 供應商:捷歐路(北京)科貿有限公司

        場發射冷凍電子顯微鏡JEM-Z300FSC (CRYO ARM? 300)配備了冷場發射電子槍、柱體內能量過濾器(Ω能量過濾器)、側插式液氮冷卻樣品臺和自動樣品交換系統,能夠在冷凍低溫下觀察生物大分子。樣品交換系統內最多可以存儲12個樣品,可以任意取出和交換一個或數個樣品,能靈活地進行測試排序。

      JEM-Z200FSC 場發射冷凍電子顯微鏡

      JEM-Z200FSC 場發射冷凍電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-Z200FSC
      • 產地:日本
      • 供應商:捷歐路(北京)科貿有限公司

        場發射冷凍電子顯微鏡 JEM-Z200FSC CRYO ARMTM 200標配冷場發射電子槍、柱體內能量過濾器(Ω能量過濾器)、液氮冷卻樣品臺和12位自動樣品更換系統。新設計的Ω能量過濾器與無孔位相板的完美組合,進一步提高了生物樣品的襯度。

      JEM-1400Flash 透射電子顯微鏡

      JEM-1400Flash 透射電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-1400Flash
      • 產地:日本
      • 供應商:捷歐路(北京)科貿有限公司

        從生物技術到納米技術、高分子和高新材料,JEM-1400Flash被廣泛應用在多個領域,而且用途越來越廣。其中,以生物領域為首的高分子材料研究、醫療品、病理切片、病毒、由熒光顯微鏡做過標記的樣品等的觀察,首先用低倍率確認細胞組織或材料結構、樣品位置、觀察區域的整體情況,再用高倍率詳細觀察感興趣的微細結構。近年來,對于這一系列的觀察程序的簡單化和獲取高通量數據快速化的需求越來越迫切。為了滿足這些需求,新款120kV透射電子顯微鏡JEM-1400Flash配備了高靈敏度sCMOS相機、超大視野的蒙太奇系統以及與光學顯微鏡圖像的聯動功能。

      EM-05500TGP TEM斷層掃描系統

      EM-05500TGP TEM斷層掃描系統

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: EM-05500TGP
      • 產地:日本
      • 供應商:捷歐路(北京)科貿有限公司

        TEM斷層掃描系統實現了從獲取連續傾斜圖像到三維重構整個過程的自動化。為使電子斷層掃描特有的各種調整能夠自動化,TEM斷層掃描系統采用了獨特算法的軟件(Recorder、Composer和Visualizer-Kai)。

      JEM-3200FS 場發射透射電子顯微鏡

      JEM-3200FS 場發射透射電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-3200FS
      • 產地:日本
      • 供應商:捷歐路(北京)科貿有限公司

        JEM-3200FS場發射電子顯微鏡配備了最高加速電壓為300kV的場發射電子槍(FEG)和鏡筒內置式Ω型能量過濾器,能為廣泛的研究領域提供各種全新的解決方案。

      JEM-2100Plus 透射電子顯微鏡

      JEM-2100Plus 透射電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-2100Plus
      • 產地:日本
      • 供應商:捷歐路(北京)科貿有限公司

        JEM-2100Plus電子顯微鏡,不僅擁有信譽卓著的JEM-2100 的電子光學系統,還增加了最新的控制系統,大幅提高了可操作性。 多功能電子顯微鏡JEM-2100Plus性能優越,操作方便,簡明易懂,在材料、醫學、生物學等多個研究領域提供優異的解決方案。

      JEM-1000 超高壓透射電子顯微鏡

      JEM-1000 超高壓透射電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-1000
      • 產地:日本
      • 供應商:捷歐路(北京)科貿有限公司

        由于超高壓透射電子顯微鏡的加速電壓很高電子波長很短,即使增大物鏡極靴之間的間隙,也能獲得高分辨率的圖像。此外,電子束具有很強的穿透能力,即使厚樣品也能觀察到清晰的圖像,這是超高壓透射電子顯微鏡的最大優點。

      JEM-ARM300F GRAND ARM 透射電子顯微鏡

      JEM-ARM300F GRAND ARM 透射電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-ARM300F GRAND ARM
      • 產地:日本
      • 供應商:捷歐路(北京)科貿有限公司

        JEM-ARM300F實現了世界最高掃描透射像(STEM-HAADF)分辨率,配備了JEOL自主研發的球差校正器,最高加速電壓可達300kV,是一款原子級分辨率電子顯微鏡。實現了世界最高的STEM-HAADF像分辨率。

      Themis透射電子顯微鏡

      Themis透射電子顯微鏡

      • 品牌: 美國FEI
      • 型號: Themis Z
      • 產地:美國
      • 供應商:賽默飛世爾科技電子顯微鏡

        用于材料科學領域最先進的電子顯微鏡Themis Z,具有無與倫比的性能,靈活性和可重復性。它所采用的新型S-CORR像差校正器,是唯一能夠完全校正五階像散A5和五階球差C5的校正器,能夠在最寬的加速電壓范圍內實現亞埃STEM分辨率。

      Tecnai? 透射電子顯微鏡

      Tecnai? 透射電子顯微鏡

      • 品牌: 美國FEI
      • 型號: Tecnai G2 系列
      • 產地:美國
      • 供應商:賽默飛世爾科技電子顯微鏡

        FEI Tecnai? 透射電子顯微鏡 (TEM) 旨在為生命科學、材料科學、納米技術以及半導體和數據存儲行業提供真正的通用成像和分析解決方案。

      Talos 透射電鏡

      Talos 透射電鏡

      • 品牌: 美國FEI
      • 型號: Talos
      • 產地:美國
      • 供應商:賽默飛世爾科技電子顯微鏡

        Talos F200X S / TEM可在多個維度上提供最快,最精確的納米材料定量表征。 Talos F200X S / TEM具有旨在提高產量,精度和易用性的創新功能,是學術,政府和工業研究環境中高級研究和分析的理想選擇。

      Titan Krios G2透射電子顯微鏡

      Titan Krios G2透射電子顯微鏡

      • 品牌: 美國FEI
      • 型號: Titan Krios G2
      • 產地:美國
      • 供應商:賽默飛世爾科技電子顯微鏡

        Titan Krios? G2透射電子顯微鏡(TEM)專門用于蛋白質和細胞的成像。采用革新性的冷凍技術,具有很高的穩定性,可用于各種半自動化應用,包括:單顆粒分析、雙軸細胞電子斷層成像、冷凍電子顯微鏡,二維電子晶體學和亞細胞器官或細胞在含水狀態下的冷凍電子顯微鏡觀察。

      120kV透射電子顯微鏡

      120kV透射電子顯微鏡

      • 品牌: 美國FEI
      • 型號: Tecnai G2 Spirit
      • 產地:美國
      • 供應商:賽默飛世爾科技電子顯微鏡

        Tecnai G2透射電子顯微鏡是FEI生產的新型、性能優越的藝術級儀器。Tecnai G2運行在Windows XP的操作系統下,提供了高性能和多功能, 用戶在使用方便、個性化和安全環境下可輕易獲得大量的高質量分析成果。Tecnai G2使透射電子顯微鏡的操作比以往更方便簡捷。 在Tecnai G2上, 所有的操作和探測系統(包括透射掃描附件、視頻監視器、CCD相機、EDX能譜儀、EELS電子能量損失譜和能量過濾器)可以全部集成到一個系統之中, 通過一個顯示器、鼠標和鍵盤進行操作。

      200kV透射電子顯微鏡

      200kV透射電子顯微鏡

      • 品牌: 美國FEI
      • 型號: Tecnai G2 20
      • 產地:美國
      • 供應商:賽默飛世爾科技電子顯微鏡

        對材料特性的全面認識是理解材料性能的基本前提。材料形態、晶體結構、化學成分、界面結構、表面以及缺陷都對材料的性能產生影響。透射電子顯微鏡已經被證實是在小到埃級尺寸研究各種普通材料和先進材料的非常有效的技術。它能夠產生很多的信號, 這些信號攜帶了不同類型的有用信息。Tecnai G2 20經過特殊設計可以快速有效地采集和處理這些信號。將高分辨圖像、明場/暗場圖像、STEM圖像、電子衍射和詳細的微觀分析有機的結合起來, 使Tecnai G2 20成為材料分析研究的重要儀器。

      透射掃描電鏡高壓電源

      透射掃描電鏡高壓電源

      • 品牌: 西安威思曼
      • 型號: HFIB
      • 產地:
      • 供應商:西安威思曼高壓電源有限公司

        【型  號】 HFIB 【功率(W)】 【最大輸出電壓(kV)】 ,20,30,40,50,60,80,100, 【在線訂購】 【在線下載】 典型應用 透射掃描電子顯微鏡 掃描電子顯微鏡 半導體分析,加工和修理 離子束刻蝕 聚焦離子束光刻 TYPICAL APPLICATIONS Transmission scanning electron microscopy Scanning electron microscopy Semiconductor analysis, milling and repair Ion beam etching Focused ion-beam lithography 有關威思曼及其更多高壓產品的信息,請致電 086-029-33693480或訪問其網站:www.wismanhv.com 威思曼高壓電源有限公司是世界具有領導地位直流高壓電源和一體化X射線源供應商,同時提供標準化產品和定制設計服務。產品廣泛應用于醫療,工業,半導體,安全,分析儀器,實驗室以及海底光纖等設備。集設計,生產和服務為一體的工廠分布于美國,英國,及中國等地,并且我們銷售中心遍布于歐洲,北美洲以及亞洲,我們將竭誠為您服務! 電子顯微鏡科技名詞定義 中文名稱:電子顯微鏡 英文名稱:electron microscope 其他名稱:電鏡 定義1:按電子光學原理用電子束使樣品成像的顯微鏡。 應用學科:機械工程(一級學科);光學儀器(二級學科);電子光學儀器-電子顯微鏡(三級學科) 定義2:一類用電子束為光源,顯示標本超微結構的顯微鏡。分為透射電子顯微鏡和掃描電子顯微鏡等。 應用學科:細胞生物學(一級學科);細胞生物學技術(二級學科) 以上內容由全國科學技術名詞審定委員會審定公布。 掃描式電鏡電子顯微鏡常用的有透射電鏡(transmissionelectronmicroscope,TEM)和掃描電子顯微鏡(scanningelectronmicroscope,SEM)。與光鏡相比電鏡用電子束代替了可見光,用電磁透鏡代替了光學透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。與光鏡相比電鏡用電子束代替了可見光,用電磁透鏡代替了光學透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。 電子顯微鏡 電子顯微鏡,簡稱電鏡,是根據電子光學原理,用電子束和電子透鏡代替光束和光學透鏡,使物質的細微結構在非常高的放大倍數下成像的儀器。電子顯微鏡由鏡筒、真空裝置和電源柜三部分組成。鏡筒主要有電子源、電子透鏡、樣品架、熒光屏和探測器等部件,這些部件通常是自上而下地裝配成一個柱體。電子透鏡用來聚焦電子,是電子顯微鏡鏡筒中最重要的部件。一般使用的是磁透鏡,有時也有使用靜電透鏡的。它用一個對稱于鏡筒軸線的空間電場或磁場使電子軌跡向軸線彎曲形成聚焦,其作用與光學顯微鏡中的光學透鏡(凸透鏡)使光束聚焦的作用是一樣的,所以稱為電子透鏡。光學透鏡的焦點是固定的,而電子透鏡的焦點可以被調節,因此電子顯微鏡不象光學顯微鏡那樣有可以移動的透鏡系統。現代電子顯微鏡大多采用電磁透鏡,由很穩定的直流勵磁電流通過帶極靴的線圈產生的強磁場使電子聚焦。 電子顯微鏡電子源是一個釋放自由電子的陰極,柵極,一個環狀加速電子的陽極構成的。陰極和陽極之間的電壓差必須非常高,一般在數千伏到3百萬伏之間。它能發射并形成速度均勻的電子束,所以加速電壓的穩定度要求不低于萬分之一。樣品架樣品可以穩定地放在樣品架上。此外往往還有可以用來改變樣品(如移動、轉動、加熱、降溫、拉長等)的裝置。探測器用來收集電子的信號或次級信號。真空裝置用以保障顯微鏡內的真空狀態,這樣電子在其路徑上不會被吸收或偏向,由機械真空泵、擴散泵和真空閥門等構成,并通過抽氣管道與鏡筒相聯接。電源柜由高壓發生器、勵磁電流穩流器和各種調節控制單元組成。 概述 電子顯微鏡按結構和用途可分為透射式電子顯微鏡、掃描式電子顯微鏡、反射式電子顯微鏡和發射式電子顯微鏡等。透射式電子顯微鏡常用于觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細微物質結構;掃描式電子顯微鏡主要用于觀察固體表面的形貌,也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結合,構成電子微探針,用于物質成分分析;發射式電子顯微鏡用于自發射電子表面的研究。 透射電子顯微鏡(TEMTransmission Electron Microscopy,亦稱投射式電子顯微鏡)因電子束穿透樣品后,再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學顯微鏡相仿,可以直接獲得一個樣本的投影。通過改變物鏡的透鏡系統人們可以直接放大物鏡的焦點的像。由此人們可以獲得電子衍射像。使用這個像可以分析樣本的晶體結構。在這種電子顯微鏡中,圖像細節的對比度是由樣品的原子對電子束的散射形成的。由于電子需要穿過樣本,因此樣本必須非常薄。組成樣本的原子的原子量、加速電子的電壓和所希望獲得的分辨率決定樣本的厚度。樣本的厚度可以從數納米到數微米不等。原子量越高、電壓越低,樣本就必須越薄。樣品較薄或密度較低的部分,電子束散射較少,這樣就有較多的電子通過物鏡光欄,參與成像,在圖像中顯得較亮。反之,樣品中較厚或較密的部分,在圖像中則顯得較暗。如果樣品太厚或過密,則像的對比度就會惡化,甚至會因吸收電子束的能量而被損傷或破壞。透射式電子顯微鏡鏡筒的頂部是電子槍,電子由鎢絲熱陰極發射出、通過第一,第二兩個聚光鏡使電子束聚焦。電子束通過樣品后由物鏡成像于中間鏡上,再通過中間鏡和投影鏡逐級放大,成像于熒光屏或照相干版上。中間鏡主要通過對勵磁電流的調節,放大倍數可從幾十倍連續地變化到幾十萬倍;改變中間鏡的焦距,即可在同一樣品的微小部位上得到電子顯微像和電子衍射圖像。為了能研究較厚的金屬切片樣品,法國杜洛斯電子光學實驗室研制出加速電壓為3500千伏的超高壓電子顯微鏡。在能量過濾透過式電子顯微鏡(Energy Filtered Transmission Electron Microscopy,EFTEM)中人們測量電子通過樣本時的速度改變。由此可以推測出樣本的化學組成,比如化學元素在樣本內的分布。 掃描電子顯微鏡(SEM Scanning electron microscope)的電子束不穿過樣品,僅以電子束盡量聚焦在樣本的一小塊地方,然后一行一行地掃描樣本。入射的電子導致樣本表面被激發出次級電子。顯微鏡觀察的是這些每個點散射出來的電子,放在樣品旁的閃爍晶體接收這些次級電子,通過放大后調制顯像管的電子束強度,從而改變顯像管熒光屏上的亮度。顯像管的偏轉線圈與樣品表面上的電子束保持同步掃描,這樣顯像管的熒光屏就顯示出樣品表面的形貌圖像,這與工業電視機的工作原理相類似。由于這樣的顯微鏡中電子不必透射樣本,因此其電子加速的電壓不必非常高。   掃描式電子顯微鏡的分辨率主要決定于樣品表面上電子束的直徑。放大倍數是顯像管上掃描幅度與樣品上掃描幅度之比,可從幾十倍連續地變化到幾十萬倍。掃描式電子顯微鏡不需要很薄的樣品;圖像有很強的立體感;能利用電子束與物質相互作用而產生的次級電子、吸收電子和X射線等信息分析物質成分。掃描式電子顯微鏡的電子槍和聚光鏡與透射式電子顯微鏡的大致相同,但是為了使電子束更細,在聚光鏡下又增加了物鏡和消像散器,在物鏡內部還裝有兩組互相垂直的掃描線圈。物鏡下面的樣品室內裝有可以移動、轉動和傾斜的樣品臺。   場發射掃描電子顯微鏡(FESEM)是一種比較簡單的掃描電子顯微鏡,它觀察樣本上因強電場導致的場發射所散發出來的電子。假如觀察的是透過樣本的掃描電子的話,那么這種顯微鏡被稱為掃描透射電子顯微鏡(Scanning Transmission Electron Microscopy,STEM)。   透射式電子顯微鏡常用于觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細微物質結構;掃描式電子顯微鏡主要用于觀察固體表面的形貌,也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結合,構成電子微探針,用于物質成分分析;發射式電子顯微鏡用于自發射電子表面的研究。   1926年漢斯布什研制了第一個磁力電子透鏡。1931年厄恩斯特盧斯卡和馬克斯克諾爾研制了第一臺透視電子顯微鏡。展示這臺顯微鏡時使用的還不是透視的樣本,而是一個金屬格。1986年盧斯卡為此獲得諾貝爾物理學獎。1938年他在西門子公司研制了第一臺商業電子顯微鏡。1934年鋨酸被提議用來加強圖像的對比度。1937年第一臺掃描透射電子顯微鏡推出。 電子顯微鏡 一開始研制電子顯微鏡最主要的目的是顯示在光學顯微鏡中無法分辨的病原體如病毒等。1949年可投射的金屬薄片出現后材料學對電子顯微鏡的興趣大增。1960年代投射電子顯微鏡的加速電壓越來越高來透視越來越厚的物質。這個時期電子顯微鏡達到了可以分辨原子的能力。1980年代人們能夠使用掃描電子顯微鏡觀察濕樣本。1990年代中電腦越來越多地用來分析電子顯微鏡的圖像,同時使用電腦也可以控制越來越復雜的透鏡系統,同時電子顯微鏡的操作越來越簡單。   1.透射電鏡技術:透射電鏡是以電子束透過樣品經過聚焦與放大后所產生的物像,投射到熒光屏上或照相底片上進行觀察。透射電鏡的分辨率為0.1~0.2nm,放大倍數為幾萬~幾十萬倍。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,必須制備更薄的超薄切片(通常為50~100nm)。其制備過程與石蠟切片相似,但要求極嚴格。要在機體死亡后的數分鐘釣取材,組織塊要小(1立方毫米以內),常用戊二醛和餓酸進行雙重固定樹脂包埋,用特制的超薄切片機(ultramicrotome)切成超薄切片,再經醋酸鈾和檸檬酸鉛等進行電子染色。電子束投射到樣品時,可隨組織構成成分的密度不同而發生相應的電子發射,如電子束投射到質量大的結構時,電子被散射的多,因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像,電子照片上則呈黑色,稱電子密度高(electrondense)。反之,則稱為電子密度低(electronlucent)。    2.掃描電鏡技術 掃描電鏡是用極細的電子束在樣品表面掃描,將產生的二次電子用特制的探測器收集,形成電信號運送到顯像管,在熒光屏上顯示物體。(細胞、組織)表面的立體構像,可攝制成照片。掃描電鏡樣品用戊二醛和餓酸等固定,經脫水和臨界點干燥后,再於樣品表面噴鍍薄層金膜,以增加二波電子數.掃描電鏡能觀察較大的組織表面結構,由於它的景深長,1mm左右的凹凸不平面能清所成像,故放樣品圖像富有立體感。   在使用透視電子顯微鏡觀察生物樣品前樣品必須被預先處理。隨不同研究要求的需要科學家使用不同的處理方法。固定:為了盡量保存樣本的原樣使用戊二醛來硬化樣本和使用鋨酸來染色脂肪。   冷固定:將樣本放在液態的乙烷中速凍,這樣水不會結晶,而形成非晶體的冰 電子顯微鏡下的病毒。這樣保存的樣品損壞比較小,但圖像的對比度非常低。脫干:使用乙醇和丙酮來取代水墊入:樣本被墊入后可以分割。分割:將樣本使用金剛石刃切成薄片。染色:重的原子如鉛或鈾比輕的原子散射電子的能力高,因此可被用來提高對比度。使用透視電子顯微鏡觀察金屬前樣本要被切成非常薄的薄片(約0.1毫米),然后使用電解擦亮繼續使得金屬變薄,最后在樣本中心往往形成一個洞,電子可以在這個洞附近穿過那里非常薄的金屬。無法使用電解擦亮的金屬或不導電或導電性能不好的物質如硅等一般首先被用機械方式磨薄后使用離子打擊的方法繼續加工。為防止不導電的樣品在掃描電子顯微鏡中積累靜電它們的表面必須覆蓋一層導電層。在電子顯微鏡中樣本必須在真空中觀察,因此無法觀察活樣本。在處理樣本時可能會產生樣本本來沒有的結構,這加劇了此后分析圖像的難度。由于投射電子顯微鏡只能觀察非常薄的樣本,而普通的光學顯微鏡有可能物質表面的結構與物質內部的結構不同。此外電子束可能通過碰撞和加熱破壞樣本。現在的最新技術可以在電子顯微鏡中觀察濕的樣本和不涂導電層的樣本(環境掃描電子顯微鏡,Environmental Scanning Electron Microscopes,ESEM)。假如事先對樣本的情況比較清晰的話則可以基本上進行不破壞的觀察。此外電子顯微鏡購買和維護的價格都比較高。 性能比較 電子顯微鏡觀察分辨能力是電子顯微鏡的重要指標,電子顯微鏡的分辨能力以它所能分辨的相鄰兩點的最小間距來表示,它與透過樣品的電子束入射錐角和波長有關。可見光的波長約為300~700納米,而電子束的波長與加速電壓有關。依據波粒二象性原理,高速的電子的波長比可見光的波長短,而顯微鏡的分辨率受其使用的波長的限制,因此電子顯微鏡的分辨率(約0.2納米)遠高于光學顯微鏡的分辨率(約200納米)。當加速電壓為50~100千伏時,電子束波長約為0.0053~0.0037納米。由于電子束的波長遠遠小于可見光的波長,所以即使電子束的錐角僅為光學顯微鏡的1%,電子顯微鏡的分辨本領仍遠遠優于光學顯微鏡。光學顯微鏡的最大放大倍率約為2000倍,而現代電子顯微鏡最大放大倍率超過300萬倍,所以通過電子顯微鏡就能直接觀察到某些重金屬的原子和晶體中排列整齊的原子點陣。電子顯微鏡的分辨本領雖已遠勝于光學顯微鏡,但電子顯微鏡因需在真空條件下工作,所以很難觀察活的生物,而且電子束的照射也會使生物樣品受到輻照損傷。其他的問題,如電子槍亮度和電子透鏡質量的提高等問題也有待繼續研究。   圖像傳感器:130萬像素,彩色CMOS,有效像素1280(H)*1024(V)   清晰度:650線以上   圖像刷新率:15幀/秒   信噪比:>60dB   視頻接口:標準VGA接口   VGA輸出支持:1024X768 60Hz(默認),1024X768 75Hz   鏡頭接口:CS   控制功能:亮度,對比度,色飽和度,銳度,Cb偏移量, Cr偏移量,十字光標疊加,垂直鏡像,水平鏡像,負片   電源:5V DC允許10%偏差   工作電流:400mA   功率:2W   體積:48*60*100(mm)總放大倍數:7-150倍   物鏡:0.7-4.5連續變倍   目鏡:0.5X   升降范圍:270mm   手輪調焦范圍:65mm   中心距離:140mm   立柱直徑:25mm   鏡頭接口直徑:50mm   支架總高度:355mm   底座尺寸:390X270X28   凈重:6KG   8寸工業液晶顯示器。   顯微鏡的放大倍數可以根據需要最大可以600倍、觀察面積可以到達30mm以上、使用方便等特點。   選配物件:XY移動平臺、LED環形光源、1X、0.3倍目鏡0.5倍、2倍物鏡、底座有多款可選、可以選配多種攝像頭。

      日本電子 JSM-7001F掃描電子顯微鏡

      日本電子 JSM-7001F掃描電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JSM-7001F
      • 產地:日本
      • 供應商:深圳市瑞盛科技有限公司

        JSM-7001F熱場發射掃描電子顯微鏡(Thermal Field Emission SEM),是能夠滿足與高分辨率和易用性同樣的分析應用需求的理想平臺。JSM-7001F具有大型、5軸、全對中馬達驅動自動化樣品臺,還有單動作樣品更換氣鎖、它的小束口壓直徑,即使在大電流和低電壓時,也具有適用于EDS、WDS、EBSP和CL的理想結構的擴充性。樣品室可處理直徑最大為 200mm的樣品。 計算機接口是新的Windows? XP系統,操作簡單,具有快速簡單地切換操作模式的功能鍵。最多可同時查看包括混合信號的四幅實時圖像,單次掃描就可以記錄并馬上存儲全部的四幅圖像。 JSM-7001F掃描電子顯微鏡還支持與EDS、WDS、電子束光刻系統和圖像數據庫的整體化。標準的樣品臺自動化由計算機控制5軸:X、Y、Z、傾斜和對中自轉。低真空操作JSM-7001FLV場發射掃描電子顯微鏡具有高分辨率性能,可以在中至高電壓千伏(kV)和更高的束流下對非導電樣品進行成像。因此無需在樣品上鍍金屬膜或碳膜以供導電,即可施用EDS、背散射成像、EBSD等分析技術。這在以下情況中特別有用: 樣品不能修改時,尚需后續測試時,或尚需返回產品線時。低真空模式規格樣品室壓力:最大50 Pa分辨率:3.0nm(30kV)(BEI)槍室壓力:5 x 10-7 Pa或更小采用的氣體:干燥氮氣

      日本電子 JSM-7001F掃描電子顯微鏡

      日本電子 JSM-7001F掃描電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JSM-7001F
      • 產地:日本
      • 供應商:深圳市瑞盛科技有限公司

        JSM-7001F熱場發射掃描電子顯微鏡(Thermal Field Emission SEM),是能夠滿足與高分辨率和易用性同樣的分析應用需求的理想平臺。JSM-7001F具有大型、5軸、全對中馬達驅動自動化樣品臺,還有單動作樣品更換氣鎖、它的小束口壓直徑,即使在大電流和低電壓時,也具有適用于EDS、WDS、EBSP和CL的理想結構的擴充性。樣品室可處理直徑最大為 200mm的樣品。 計算機接口是新的Windows? XP系統,操作簡單,具有快速簡單地切換操作模式的功能鍵。最多可同時查看包括混合信號的四幅實時圖像,單次掃描就可以記錄并馬上存儲全部的四幅圖像。 JSM-7001F掃描電子顯微鏡還支持與EDS、WDS、電子束光刻系統和圖像數據庫的整體化。標準的樣品臺自動化由計算機控制5軸:X、Y、Z、傾斜和對中自轉。低真空操作JSM-7001FLV場發射掃描電子顯微鏡具有高分辨率性能,可以在中至高電壓千伏(kV)和更高的束流下對非導電樣品進行成像。因此無需在樣品上鍍金屬膜或碳膜以供導電,即可施用EDS、背散射成像、EBSD等分析技術。這在以下情況中特別有用: 樣品不能修改時,尚需后續測試時,或尚需返回產品線時。低真空模式規格樣品室壓力:最大50 Pa分辨率:3.0nm(30kV)(BEI)槍室壓力:5 x 10-7 Pa或更小采用的氣體:干燥氮氣

      日本電子 JSM-6510掃描電子顯微鏡

      日本電子 JSM-6510掃描電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: 日本電子 JSM-6510
      • 產地:日本
      • 供應商:深圳市瑞盛科技有限公司

        JSM-6510A/ JSM-6510LA分析型掃描電子顯微鏡,與日本電子公司的元素分析儀(EDS),統合于一體。結構緊湊的EDS由顯微鏡主體系統的電腦控制,操作員只用一只鼠標,就可完成從圖像觀測到元素分析的整個過程。操作窗口直觀的操作界面的設計,簡明易懂便于迅速掌握操作。支持多用戶單個用戶可以根據常用功能設置相應的圖標,營造快捷的操作環境。用戶登錄時,即可加載已注冊過的設定。同時顯示兩幅圖像畫面上并列顯示二次電子成像和背散射電子成像這兩種實時圖像。可同時觀察樣品的形貌和組成分布。微細結構測量適合于多種測量功能。可在觀察圖像上直接進行測量。也可將測量結果貼至SEM圖像,保存在文件中。標準的全對中樣品臺,能收錄三維照片3D Sight(選配件),能夠進行平面測量和高度測量,實現立體俯視圖。從圖像觀察到元素分析,配合連貫一條龍分析型掃描電子顯微鏡配備兩臺監視器,一臺用于SEM圖像觀察和另一臺用于元素分析(EDS)。一只通用鼠標即可同時控制兩臺監視器。大尺寸畫面使操作更加簡便與舒適。維護簡便工廠預置中心燈絲,十分便于更換。因此,可長期保持穩定的高性能。此外,操作界面還能以映像形式顯示燈絲維護的步驟說明。可信賴的真空系統真空系統使用高性能的擴散泵保證了潔凈的高真空狀態。擴散泵內部無活動部件,體現了操作穩定,維護簡便的特色。

      JEOL JEM-2800 場發射透射電子顯微鏡

      JEOL JEM-2800 場發射透射電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-2800
      • 產地:日本
      • 供應商:北京圣嘉宸科貿有限公司

        日本電子株式會社(JEOL)推出了一款特殊設計的產品即JEM-2800 場發射透射電子顯微鏡,在兼顧高分辨高穩定性的同時,最求分析效率的最大化和操作的自動化。技術參數: 1. 點分辨率:0.21nm; 2. 晶格分辨率:0.1nm; 3. STEM 分辨率:0.16nm; 4. 二次電子分辨率:0.5nm; 5放大倍數:高達2,000,000 6. 能譜:可以安裝兩個超級能譜 7. 洛倫茲模式:標配

      冷場發射透射電鏡

      冷場發射透射電鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-F200
      • 產地:日本
      • 供應商:北京圣嘉宸科貿有限公司

        2016年1月,日本電子株式會社(JEOL)即全球同步推出了新款場發射透射電鏡JEM-F200。JEM-F200進行了全新設計,在保障各種功能達到極限的同時,追求操作的簡單化和自動化,為用戶提供透射電鏡操作的全新體驗。具體特點如下:(1)精煉的全新設計:在提高機械和電氣穩定性的同時,憑借對透射電鏡的豐富經驗,對電鏡整體進行了精煉全新設計,力求為用戶提供全新感受;(2)高端掃描系統:在照明系統掃描功能之上又增加了成像系統的掃描功能(選購件)可以獲得大范圍的STEM-EELS;(3)電鏡光源:冷場發射光源比其他電鏡使用的肖特基熱場發射光源能量發射度小,在TEM成像時相干性更好,圖像質量大大提高;(4)聚光鏡匯聚方式:新電鏡采用四級聚光鏡且亮度及會聚焦分開控制,很容易獲得追加實驗條件,避免了傳統的聚光鏡亮度與會聚焦同時控制,有時會相互干擾,無法達到最佳狀態。(5)物鏡匯聚方式:物鏡上采用掃描方式,可以獲得大范圍的STEM-EELS

      日立透射電鏡HT7700 Exalens

      日立透射電鏡HT7700 Exalens

      • 品牌: 日立
      • 型號: HT7700 Exalens
      • 產地:日本
      • 供應商:北京圣嘉宸科貿有限公司

        日立最新推出120kV透射電鏡HT7700 Exalens,該透射電鏡繼承了標準版HT7700免熒光屏設計、全數字化、大集成等優點和創新點,仍然保留雙隙物鏡的設計,設計使用高分辨物鏡,標配LaB6燈絲,性能實現突破性提升。此機型分辨率可保證0.144nm(晶格像),成為目前市場上唯一一款120kV透射電鏡中分辨率最高的機型。產品特點:被廣泛應用于納米材料和軟材料研究領域,可以滿足客戶對分辨率的要求1、高分辨物鏡可保證0.144nm的分辨率,可滿足用戶對高分辨圖像的要求。2、在較低的加速電壓下,仍保持較高的分辨率,在最大程度降低樣品損傷的同時,獲得高質量的高分辨圖片。

      日立透射電子顯微鏡HT7700

      日立透射電子顯微鏡HT7700

      • 品牌: 日立
      • 型號: HT7700
      • 產地:日本
      • 供應商:北京圣嘉宸科貿有限公司

        HT7700型透射電子顯微鏡是一款全新設計的高級顯微鏡,專門用于生物和納米材料的觀察,具有極高的對比度和高分辨率的成像功能,是一款功能多合一的系統。將TEM操作統一于顯示器上,無需直視熒光板,實現了無膠片化,可以在明亮的室內進行觀察,以往在熒光板上發暗而難于識別的圖像在顯示器上也能夠實現清晰地顯示。標配電鏡圖像管理軟件(EMIP-SP),自動將拍攝的圖像注冊到圖像數據庫,便于圖像的管理與分類,進行長度測量和圖像處理等功能。該設備采用分子泵真空系統,排氣系統清潔干凈。與之前型號相比,該設備耗電省,且能減少30%的二氧化碳排放量。主要參數:項目特點圖像分辨率0.204 nm(晶格像)加速電壓40 - 120 kV(100V增量)圖像信號×200 ×200,000(高反差模式)×4,000 ×600,000(高分辨率模式)×50 ×1,000(低倍模式)樣品傾斜度±30°, ±70° (*)主照相機像素尺寸(底部安裝)1,024×1,024 像素 或 2,048×2,048 像素真空系統分子泵 ×1,機械泵 ×1電源單相交流100伏±10%,4千伏安

      日本電子JEM-ARM200F 透射電子顯微鏡

      日本電子JEM-ARM200F 透射電子顯微鏡

      • 品牌: 日本電子
      • 型號: JEM-ARM200F
      • 產地:日本
      • 供應商:富瑞博國際有限公司

        日本電子JEM-ARM200F 透射電子顯微鏡 富瑞博國際有限公司代理多家國際知名儀器廠商產品 儀器簡介: JEM-ARM200F的電子光學系統標準配備了一體化的球差校正器, 其掃描透射像分辨率(STEM-HAADF)達到了0.08nm,為商用透射電子顯微鏡分辨率的世界之最。 保證0.08nm的世界最高STEM (HAADF) 分辨率 ARM200F為電子光學系統標準配備了一體化球差校正器,電氣和機械性能的穩定性也達到極限水平, 使掃描透射像(STEM-HAADF)分辨率達到0.08nm, 成為商用透射電子顯微鏡中的世界之最。電子束在像差校正之后, 束流密度比傳統的透射電子顯微鏡高出一個數量級。因為束流更亮更細、電流密度高, ARM200F能夠在進行原子水平分析的同時, 還能縮短檢測時間和提高樣品處理能力。 電氣穩定性的提高 要達到原子水平的分辨率, 控制電子光學系統的電源需要穩定。ARM200F把高壓和物鏡電流變動降低到傳統透射電子顯微鏡50%, 大幅度地提高了電氣的穩定性。 機械穩定性的提高 照射系統和成像系統采用像差校正器,實現原子水平的分析和成像,需要控制原子水平的振動和變形。 ARM200F整體機械強度比傳統透射電子顯微鏡增大兩倍,通過增大鏡筒尺寸,提高了剛度,優化了操作臺結構,增強了機械的穩定性。 高擴展性的STEM 分析能力 暗場檢測器因STEM檢測角度的不同有兩種類型(其中一種為標配), 它和明場檢測器(標準配備), 背散射電子檢測器 (選配件) 可以同時安裝。新的掃描成像獲取系統能夠同時收集4種不同類型的信號, 可以同時觀察這4種圖像。 環境對策 裝置設置室的溫度變化和雜散磁場也能引起原子水平的振動和變形。為降低外部影響,ARM200F特別標配了熱屏蔽和磁屏蔽系統。另外,對鏡筒加外覆蓋以免受周圍空氣對流所引起的鏡筒表面溫度變化的影響。 用于成像系統的球差校正器 (選配件) 使用選配的成像系統球差校正器, 透射電子顯微鏡的圖像(TEM)分辨率能提高到0.11 nm。 JEM-ARM200F 規格 分辨率 掃描透射像1) 0.08 nm2)(加速電壓為200kV時) 透射像 點分辨率 線分辨率 0.19 nm (加速電壓為200kV時) 0.11 nm (使用成像系統球差校正器3), 加速電壓為200kV時) 0.10 nm 放大倍率 掃描透射像 200 至 150,000,000x 透射像 50 至 2,000,000x 電子槍 肖特基場發射槍 加速電壓 80 至 200 kV4) 樣品臺 樣品臺 全對中側插式測角臺 樣品尺寸 直徑3mm 樣品傾斜角 最大25°(使用雙傾臺) 移動范圍 X/Y:±1.0mm(馬達驅動) 球差校正器 照明系統的球差校正器(STEM) 標準配置 成像系統的球差校正器(TEM) 選配件 選配件 能譜儀(EDS) 電子能量損失譜儀 (EELS) CCD 相機等 1. 使用HAADF (高角度環形暗場)檢測器 2. 測試標樣Ge(112)情況下保證. 3. 選配件 4. 標準電壓: 120 kV, 200 kV 富瑞博國際有限公司代理多家國際知名儀器廠商產品 相關產品垂詢,敬請與我們聯系。富瑞博將為您的實驗室提供最優質的服務和解決方案。 富瑞博國際有限公司 更多產品請登陸富瑞博官網:www.freeboard.com.cn 電話:020-86290702 傳真:020-86290703 郵箱:marketing@freeboard.com.cn

      CAMECA 三維原子探針

      CAMECA 三維原子探針

      • 品牌: 法國Cameca
      • 型號: LEAP 5000
      • 產地:美國
      • 供應商:法國cameca公司

        三維原子探針顯微術(3DAP),也稱為原子探針斷層分析術(APT),是一種具有原子級空間分辨率的測量和分析方法。基于“場蒸發”原理,三維原子探針通過在樣品上施加一個強電壓脈沖或者激光脈沖,將其表面原子逐一變成離子而移走并收集。3DAP的特性就是從最小的尺度來逐點揭示材料內部結構,不論簡單亦或復雜。可以輕松獲得納米尺度結構的細節化學成分和三維形貌,因而專門應對材料研發中令人棘手的小尺度結構的測量與分析問題。例如,沉淀相或團簇結構的尺寸、成份及分布;又比如元素在各種內界面(晶界、相界、多層膜結構中的層間界面等)的偏聚行為等等。 以前,由于對樣品有導電性的要求以及制作針尖形狀樣品有一定難度等一些問題,原子探針的應用曾經在很長一段時間內局限于金屬材料,僅僅做純科學的探索。進入2000年以來,儀器本身在一些關鍵技術上的突破性進展,加上匯聚離子束制樣技術的成熟,大大拓展了原子探針的應用范圍,可研究的對象涵蓋金屬、半導體、存儲介質,到先進材料(納米線、量子阱)等廣泛的材料類型;應用上從純學術研究到汽車、航空發動機、核設施、半導體芯片、LED、光伏材料等等應用科學甚至直接的生產過程監控。從無機材料到有機材料《Nature》曾報道了利用這一技術對動物頭蓋骨的研究。時至今日,3DAP技術因其獨到的分析視角正在為越來越多的材料研發人員所認識,已經逐漸加入TEM、SIMS等工具的行列,成為材料分析的主流分析技術之一。 局部電極 和 微尖陣列 局部電極(Local ElectrodeTM)是原子探針的關鍵部件。LEAP局部電極原子探針(Local ElectrodeTM Atom Probe)即取名于此。局部電極的應用改善了原子探針的易用性和數據質量,也因為局部電極,原子探針可以利用微尖陣列(MicrotipTM arrays)一次裝載多個樣品,大大提高原子探針的實驗效率。 反射鏡 高質量分辨率 和 大視場 新一代 LEAP 5000R 配備了新型能量補償反射鏡(Reflectron),在優化質量分辨率的同時獲得了大視場(可達250nm)。對于工作在電壓脈沖模式下的那些應用(例如,傳統的金屬材料),將獲得出色的質量分辨率。 小束斑UV激光 在激光模式下工作時,LEAP 5000XR使用了聚焦到很小束斑的UV波長激光。小束斑保證了優異的質量分辨,UV波長保證了對包括許多絕緣體在內的眾多材料都可以給出更好的結果。更多內容請閱讀綁定資料,并請瀏覽我公司網頁:http://www.cameca.com/instruments-for-research/atom-probe.aspx

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